EDI超纯水设备运行过程中电阻率下降的原因与进水水质、压力、流量、电压和进水水质的污染有关，包括以下几点：　　1、前置反渗透设备出水不合格　　如果原水含盐量较高，建议采用双级反渗透设备设备进行预脱盐，其电导率应保持在1～3μS/cm。若进水CO2含量高，建议使用脱气膜或脱气塔去除CO2。如果pH值偏离中性太大，调整pH值，使EDI进水pH值为7～8。　　2、当前的EDI控制系统存在问题　　工作电流增大，产水水质不断改善。然而，EDI纯水设备，如果电流在增加到顶点后增加，由于水电离产生过量的H 和OH-离子，除了再生树脂外，大量剩余离子作为载流离子导电。同时，由于大量载流离子在运移过程中积累和堵塞，甚至反扩散，导致产水水质下降。

超纯水的“有效期”是多久？

超纯水的“有效期”是多久？1、即取即用　　超纯水取水后很容易遭到环境污染，所以即取即用方式更合适。只有把超纯水与环境接触的时间缩短，才能够获得纯度极高的超纯水。　　2、存放时间　　在配制高纯度的化学试剂时，edi纯水设备，尽量不要使用长时间储桶中存放的超纯水，因为储桶经长时间使用后，会因杂质、微生物的污染而造成水质的劣化，储存时间过长会导致超纯水在使用时已经不再是超纯水。　　3、纯水储桶需安装空气过滤器，天津纯水设备，防止环境因素造成的污染。

半导体材料是在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电等领域进行应用的。半导体材料在应用中会需要一定量的超纯水，可用于清洗，该超纯水电阻率达到了18兆欧，不含导电介质和金属离子，可满足作为半导体清洗用水的需求。采用两级RO EDI 精混床除盐水处理工艺，处理后的水质可达到18MΩ.CM以上，电子纯水设备，符合半导体用水标准。设备采用如今大热的膜技术，可有效去除水中的导电介质，以及水中不离解的胶体物质、气体及有机物，设备的出水纯度高，无病毒与细菌，不含任何悬浮物、无化学污染，产出的可谓是高品的超纯水了

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