在半导体生产中，电子纯水设备，超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，重金属(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力，III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。细菌高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片，导致器件性能下降。水中的颗粒，包括细菌，如果附着在硅片表面，会导致短路或性能恶化。可见，超纯水在半导体行业的必要性。
纯净水和无法渗透过的浓缩水严格的分开
纯净水和无法渗透过的浓缩水严格的分开。其优点是：
1、组成设备所用的零件性能良好，质量有所保证，可以有较长的使用寿命。
2、能够根据需要增加反渗透膜，EDI纯水设备，从而使得水处理的容量变大。
3、当设备出现问题的时候，其所配备的“自我保护系统”能够使得设备及时地停止运作。
4、超纯水设备采用了复合膜，这种反渗透膜能够更有效地去除水中的杂质、污染物等有害物质。
5、超纯水设备设计合理，保定纯水设备，相对于其他设备占地面积小。
6、复合膜的冲洗维护十分方便，膜的抗污染性能良好，可有效降低膜的清洗频率。
EDI超纯水设备主要用于电子、石油、化工、制药等对水质要求较高的领域。因此，EDI超纯水设备的平稳运行非常重要。部分用户会遇到EDI超纯水设备压力过高的情况。那么，EDI超纯水设备的压力过高又该如何是好呢?
1、当水压过高时，需及时进行反洗。如果上部配水器孔很大，树脂膨胀程度较大，容易使树脂从上端进入多路阀，导致树脂泄漏。
2、阀门异常会导致水指标不稳定。当水压过高时，多路阀的一侧将形成无法计算的压力，超纯水设备，这也可能发生在阀板上。阀门运行可能不顺畅，或开关时阀门不到位，导致水质达不到预期效果。
3、当水压过高，需要重新注入盐水时，需要向盐罐注入大量水。高水位可能导致水溢出。
4、当EDI超纯水设备压力过高时，盐的吸收速度会变得非常快，缩短了再生时间，无法达到树脂再生的效果。
瑞尔环保守护未来(图)-超纯水设备-保定纯水设备由天津开发区瑞尔环保科技有限公司提供。天津开发区瑞尔环保科技有限公司是从事“纯水设备,软水设备,污水设备,水处理设备,精工品质,瑞尔制造”的企业，公司秉承“诚信经营，用心服务”的理念，为您提供更好的产品和服务。欢迎来电咨询！联系人：瑞经理。同时本公司还是从事天津纯水设备，天津工业纯水设备，瑞尔环保的厂家，欢迎来电咨询。
