EDI膜堆主要由交替排列的阳离子交换膜、浓水室、阴离子交换膜、淡水室和正、负电极组成。离子交换树脂充夹在阴阳离子交换膜之间形成单个处理单元，并构成淡水室，单元与单元之间用网状物隔开，形成浓水室。在直流电场的作用下，淡水室中离子交换树脂中的阳离子和阴离子沿树脂和膜构成的通道分别向负极和正极方向迁移，阳离子透过阳离子交换膜，阴离子透过阴离子交换膜，分别进入浓水室形成浓水。同时EDI进水中的阳离子和阴离子跟离子交换树脂中的氢离子和氢氧根离子交换，形成超纯水（高纯水）。超极限电流使水电解产生的大量氢离子和氢氧根离子对离子交换树脂进行连续的再生。传统的离子交换，离子交换树脂饱和后需要化学间歇再生。而EDI膜堆中的树脂通过水的电解连续再生，半导体纯水设备定制，工作是连续的，不需要酸碱化学再生。

EDI装置将给水分成三股独立的水流：纯水、浓水、和极水。纯水（90%-95%）为终得到水，保定半导体纯水设备，浓水（5%-10%）可以再循环处理，极水（1%）排放掉。

EDI超纯水设备工作原理

半导体材料是在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电等领域进行应用的。半导体材料在应用中会需要一定量的超纯水，可用于清洗，该超纯水电阻率达到了18兆欧，不含导电介质和金属离子，可满足作为半导体清洗用水的需求。采用两级RO EDI 精混床除盐水处理工艺，处理后的水质可达到18MΩ.CM以上，半导体纯水设备报价，符合半导体用水标准。设备采用如今大热的膜技术，可有效去除水中的导电介质，以及水中不离解的胶体物质、气体及有机物，设备的出水纯度高，无病毒与细菌，不含任何悬浮物、无化学污染，产出的可谓是高品的超纯水了

EDI超纯水设备应用行业

1、电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。

2、电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液。

3、显像管和阴极射线管生产、配料用纯水。

4、黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水。

5、液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液。

6、晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制。

7、集成电路生产中高纯水清洗硅片

8、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路。

9、LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏。

10、显像管、萤光粉生产。

11、半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗。

12、超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料。

13、实验室和中试车间。

14、汽车、家电表面抛光处理。

15、光电产品、其他高科技精微产品。

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