设备材料：EDI超纯水系统通常采用玻璃钢和不锈钢制造。
此时，应根据水处理工艺确定。
出水：由于超纯水不能直接与空气接触，所以在整个EDI超纯水系统的末端设置一个纯水水箱。
纯水水箱的大小主要取决于企业每小时所需的水量。
现场考察：在运行条件下，建议在EDI超纯水系统制造商现场进行现场考察，或先在线查看制造商的成功案例。
售后服务：部分厂家只负责销售，不负责全套流程。
一旦像这样大的设备出现问题，那就是成千上万的问题。
因此，在采购时，首先要了解厂家是否有售后服务项目。
EDI超纯水设备电阻率下降原因有哪些?
EDI超纯水设备电阻率下降原因有哪些？
有机物污染
EDI纯水设备进水中的有机胶体受到污染，反渗透只能去除相对分子量大于200的有机胶体。
如果分子量低于200，它将进入EDI超纯水设备。
这部分低分子量材料被组件中的阴阳离子交换树脂吸附在骨架的网格和阴阳离子膜的表面上，阻碍了阴阳离子的置换反应和水离子穿透阴阳离子膜的速度，半导体纯水设备，导致EDI工作性能下降，电阻率下降。
超纯水设备出水符合芯片生产用水需求 在芯片生产中，天津纯水设备，几乎每一道工序都需要超纯水清洗，工件与水直接接触。
一旦水质不达标或水中含有杂质，就会降低设备性能，超纯水设备，降低产量。
确保超纯水的质量是我国自主研发芯片的重要基础。
传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。
这种工艺的缺点是树脂在使用一段时间后会频繁地再生，增加成本。
随着膜分离技术的不断成熟，莱特莱德采用反渗透工艺，或反渗透后再采用EDI和抛光混床工艺生产超纯水，edi纯水设备，出水电导率可达18.2MΩ，满足芯片行业用水需求。
随着芯片制造工艺中对设计的需求更小，对纯水水质的要求也越来越严格。
莱特莱德芯片超纯水设备能在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、细菌、有机物和微生物，从而达到行业用水要求。
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